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Nuovo di zecca Lam Research SM930MS102CK controller di portata massica

Nuovo di zecca Lam Research SM930MS102CK controller di portata massica

Nuovo di zecca Lam Research SM930MS102CK controller di portata massica

Alta precisione, prestazioni stabili

Adatto all'automazione industriale

Disponibile in magazzino e consegna rapida in tutto il mondo

  • Articolo n.:

    SM930MS102CK

  • Ordine (MOQ):

    1

  • Pagamento:

    100% T/T

  • Origine del prodotto:

    USA

  • Colore:

    As Model

  • Porto di spedizione:

    Xiamen

  • Tempi di consegna：

    2-3 days
Richiedi informazioni adesso
  • Dettagli del prodotto

Descrizione:

Gli spettrometri a fibra ottica LAM Research sono dispositivi di monitoraggio ottico ad alta precisione integrati nelle apparecchiature per la lavorazione dei wafer semiconduttori. Accoppiati principalmente a moduli ottici professionali, adottano un design di trasmissione a fibra ottica per catturare l’emissione del plasma, gli spettri di riflessione e di trasmissione all’interno delle camere di processo. Ampiamente utilizzati per il rilevamento del punto finale di incisione (etch endpoint), la metrologia dei film sottili e il monitoraggio in tempo reale delle condizioni del plasma, questi dispositivi garantiscono prestazioni di processo stabili, migliorano la resa produttiva e riducono i prodotti difettosi nei processi di etching, CVD, PVD e altre procedure di produzione sotto vuoto. Come componenti compatibili OEM originali, offrono un’eccellente compatibilità e affidabilità a lungo termine per gli strumenti di processo LAM full-series.
 
 
 
Specifiche principali:
  1. Dotati di rivelatori CCD/PMT ad alta sensibilità, offrono un’eccellente risoluzione spettrale e basso rumore. Coprono il range di lunghezze d’onda UV-visibile per soddisfare le diverse esigenze di monitoraggio dei processi semiconduttori.
  2. Le interfacce in fibra SMA standard supportano la trasmissione del segnale a lunga distanza. Le sonde compatibili con il vuoto funzionano in modo stabile in ambienti ad alto vuoto, alta temperatura e plasma.
  3. L’analisi spettrale in tempo reale consente un giudizio preciso del punto finale di etching, la misurazione dello spessore dei film sottili e delle proprietà ottiche, evitando efficacemente sovra-etching e sotto-etching.
  4. Porte di comunicazione Ethernet e RS-232 integrate, pienamente compatibili con i protocolli delle apparecchiature LAM per una perfetta interazione dei dati e integrazione di sistema.
  5. Struttura compatta e robusta con capacità anti-vibrazione e anti-interferenza. Supporta il funzionamento continuo 24/7 e una facile sostituzione in loco.
 

 

Applicazioni tipiche:

  1. Sistemi di incisione al plasma, apparecchiature di deposizione di film sottili CVD, PVD e ALD
  2. Rilevamento del punto finale nei processi di incisione dei wafer
  3. Misurazione in situ dello spessore dei film sottili e della riflettanza
  4. Analisi in tempo reale dello stato del plasma per camere di processo sotto vuoto
  5. LAM Research 2300, 9400, ExAL e altre piattaforme di processo principali

 

 

FAQ:

Q1:Qual è la situazione del prodotto e come funziona la garanzia?
A:Articoli originali nuovi di zecca. Garanzia di 1 anno inclusa.

Q2:Quali sono le vostre condizioni di pagamento?
A:T/T, Paypal supportati.

Q3: Qual è il tempo di consegna del prodotto? C’è sufficiente disponibilità di magazzino?
A:Modelli standard disponibili in magazzino, spediti entro 3–5 giorni lavorativi dopo il pagamento. I modelli rari richiedono l’ordine al produttore—contattare il servizio clienti per i tempi.

Q4:Spedizione e tracciamento
A:DHL/FedEx/UPS disponibili. Numero di tracciamento + link forniti dopo la spedizione. Monitoraggio dell’intero processo da parte del nostro team.

Q5:Imballaggio e sicurezza

 

A:Confezione originale del marchio con protezione rinforzata (schiuma, scatole sigillate, casse in legno per strumenti di precisione). Resistente all’umidità e agli urti.

 

 

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