Descrizione:
Gli spettrometri a fibra ottica LAM Research sono dispositivi di monitoraggio ottico ad alta precisione integrati per apparecchiature di lavorazione di wafer semiconduttori. Principalmente abbinati a moduli ottici professionali, adottano un design di trasmissione in fibra ottica per acquisire emissioni di plasma, spettri di riflessione e trasmissione all'interno delle camere di processo. Ampiamente utilizzati per il rilevamento del punto finale di incisione (etch endpoint), la metrologia di film sottili e il monitoraggio in tempo reale delle condizioni del plasma, queste unità garantiscono prestazioni di processo stabili, migliorano la resa produttiva e riducono i prodotti difettosi nelle procedure di incisione, CVD, PVD e altre lavorazioni sotto vuoto. Come componenti originali compatibili OEM, presentano un'eccellente compatibilità e affidabilità a lungo termine per gli strumenti di processo LAM full-series.
Specifiche principali:
- Dotati di rivelatori CCD/PMT ad alta sensibilità, offrono un'eccezionale risoluzione spettrale e basso rumore. Coprono il range di lunghezze d'onda UV-visibile per soddisfare le diverse esigenze di monitoraggio dei processi semiconduttori.
- Le interfacce in fibra SMA standard supportano la trasmissione del segnale a lunga distanza. Le sonde compatibili con il vuoto funzionano stabilmente in ambienti ad alto vuoto, alta temperatura e plasma.
- L'analisi spettrale in tempo reale consente un giudizio preciso del punto finale dell'etch, la misurazione dello spessore dei film sottili e delle proprietà ottiche, evitando efficacemente sovra-etching e sotto-etching.
- Porti di comunicazione Ethernet e RS-232 integrati, completamente compatibili con i protocolli delle apparecchiature LAM per una perfetta interazione dei dati e integrazione del sistema.
- Struttura compatta e robusta con capacità anti-vibrazione e anti-interferenza. Supporta funzionamento continuo 24/7 e facile sostituzione in loco.
Applicazioni tipiche:
- Impianti di incisione al plasma, apparecchiature di deposizione di film sottili CVD, PVD e ALD
- Rilevamento del punto finale per processi di incisione dei wafer
- Misurazione in situ dello spessore dei film sottili e della riflettanza
- Analisi in tempo reale dello stato del plasma per camere di processo sotto vuoto
- LAM Research 2300, 9400, ExAL e altre piattaforme di processo principali
FAQ:
Q1:Qual è la situazione del prodotto e come funziona la garanzia?
A:Articoli nuovi e originali. Garanzia di 1 anno inclusa.
Q2:Quali sono i termini di pagamento?
A:T/T, Paypal supportati.
Q3: Quali sono i tempi di consegna del prodotto? C'è disponibilità sufficiente in magazzino?
A:Modelli standard in stock, spediti entro 3–5 giorni lavorativi dopo il pagamento. I modelli rari richiedono l'ordine dal produttore—contattare il servizio clienti per le tempistiche.
Q4:Spedizione e tracciamento
A:DHL/FedEx/UPS disponibili. Numero di tracciamento + link forniti dopo la spedizione. Monitoraggio dell'intero processo da parte del nostro team.
Q5:Imballaggio e sicurezza
A:Imballaggio originale del marchio con protezione rinforzata (schiuma, cartoni sigillati, casse di legno per apparecchiature di precisione). Resistente a umidità e urti.