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Nuovo di zecca Lam Research 839-034671-001 controllore di flusso di massa

Nuovo di zecca Lam Research 839-034671-001 controllore di flusso di massa

Nuovo di zecca Lam Research 839-034671-001 controllore di flusso di massa

Alta precisione, prestazioni stabili

Adatto all'automazione industriale

Disponibile in magazzino e consegna rapida in tutto il mondo

  • Articolo n.:

    839-034671-001

  • Ordine (MOQ):

    1

  • Pagamento:

    100% T/T

  • Origine del prodotto:

    USA

  • Colore:

    As Model

  • Porto di spedizione:

    Xiamen

  • Tempi di consegna：

    2-3 days
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  • Dettagli del prodotto

Descrizione:

Gli spettrometri a fibra ottica LAM Research sono dispositivi di monitoraggio ottico ad alta precisione integrati per apparecchiature di lavorazione dei wafer semiconduttori. Principalmente abbinati a moduli ottici professionali, adottano un design di trasmissione in fibra ottica per catturare l’emissione del plasma, gli spettri di riflessione e trasmissione all’interno delle camere di processo. Ampiamente utilizzati per il rilevamento del punto finale di incisione (etch), la metrologia dei film sottili e il monitoraggio in tempo reale delle condizioni del plasma, queste unità garantiscono prestazioni di processo stabili, migliorano la resa produttiva e riducono i prodotti difettosi nei processi di etching, CVD, PVD e altre procedure di produzione sotto vuoto. In quanto componenti compatibili OEM originali, offrono un’eccellente compatibilità e affidabilità a lungo termine per i sistemi di processo LAM full-series.
 
 
 
Specifiche principali:
  1. Dotati di rivelatori CCD/PMT ad alta sensibilità, offrono un’eccellente risoluzione spettrale e basso rumore. Coprono l’intervallo di lunghezze d’onda UV-visibile per soddisfare le diverse esigenze di monitoraggio dei processi semiconduttori.
  2. Le interfacce in fibra SMA standard supportano la trasmissione del segnale a lunga distanza. Le sonde compatibili con il vuoto funzionano stabilmente in ambienti ad alto vuoto, alta temperatura e plasma.
  3. L’analisi spettrale in tempo reale consente una valutazione precisa del punto finale dell’etch, la misurazione dello spessore dei film sottili e delle proprietà ottiche, evitando efficacemente sovra-etching e sotto-etching.
  4. Porta Ethernet e RS-232 integrate, completamente compatibili con i protocolli delle apparecchiature LAM per una perfetta interazione dei dati e integrazione di sistema.
  5. Struttura compatta e robusta con capacità anti-vibrazione e anti-interferenza. Supporta il funzionamento continuo 24/7 e una facile sostituzione in loco.
 

 

Applicazioni tipiche:

  1. Sistemi di etching al plasma, apparecchiature di deposizione di film sottili CVD, PVD e ALD
  2. Rilevamento del punto finale nei processi di etching dei wafer
  3. Misurazione in situ dello spessore dei film sottili e della riflettanza
  4. Analisi in tempo reale dello stato del plasma per camere di processo sotto vuoto
  5. LAM Research 2300, 9400, ExAL e altre piattaforme di processo principali

 

 

FAQ:

Q1: Qual è la condizione del prodotto e la garanzia?
A: Articoli nuovi originali. Garanzia di 1 anno inclusa.

Q2: Quali sono i termini di pagamento?
A: T/T, Paypal supportati.

Q3: Qual è il tempo di consegna del prodotto? C'è sufficiente disponibilità in magazzino?
A: Modelli standard in stock, spediti entro 3–5 giorni lavorativi dopo il pagamento. I modelli rari richiedono l’ordine al produttore—contattare il servizio clienti per le tempistiche.

Q4: Spedizione e tracciamento
A: Disponibili DHL/FedEx/UPS. Numero di tracciamento + link forniti dopo la spedizione. Monitoraggio dell’intero processo da parte del nostro team.

Q5: Imballaggio e sicurezza

 

A: Confezione originale del marchio con protezione rinforzata (schiuma, cartoni sigillati, casse di legno per apparecchiature di precisione). Resistente all’umidità e agli urti.

 

 

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