Descrizione:
Gli spettrometri a fibra ottica LAM Research sono dispositivi di monitoraggio ottico ad alta precisione integrati per le apparecchiature di lavorazione dei wafer semiconduttori. Principalmente abbinati a moduli ottici professionali, adottano un design di trasmissione in fibra ottica per catturare l’emissione del plasma, nonché gli spettri di riflessione e trasmissione all’interno delle camere di processo. Ampiamente utilizzati per il rilevamento del punto finale dell’etching, la metrologia dei film sottili e il monitoraggio in tempo reale delle condizioni del plasma, queste unità garantiscono prestazioni di processo stabili, migliorano la resa produttiva e riducono i prodotti difettosi nei processi di incisione, CVD, PVD e altre procedure di produzione sotto vuoto. Come componenti compatibili OEM originali, presentano un’eccellente compatibilità e un’affidabilità a lungo termine per l’intera serie di strumenti di processo LAM.
Specifiche principali:
- Dotati di rilevatori CCD/PMT ad alta sensibilità, offrono un’eccellente risoluzione spettrale e basso rumore. Coprono il range di lunghezze d’onda UV-visibile per soddisfare le diverse esigenze di monitoraggio dei processi semiconduttori.
- Le interfacce standard in fibra SMA supportano la trasmissione del segnale a lunga distanza. Le sonde compatibili con il vuoto funzionano stabilmente in ambienti ad alto vuoto, alta temperatura e plasma.
- L’analisi spettrale in tempo reale consente una valutazione precisa del punto finale dell’etching, della misurazione dello spessore dei film sottili e delle proprietà ottiche, evitando efficacemente sovra-etching e sotto-etching.
- Le porte di comunicazione Ethernet e RS-232 integrate sono pienamente compatibili con i protocolli delle apparecchiature LAM per una perfetta interazione dei dati e integrazione del sistema.
- Struttura compatta e robusta con capacità anti-vibrazione e anti-interferenza. Supporta il funzionamento continuo 24/7 e una facile sostituzione in loco.
Applicazioni tipiche:
- Sistemi di etching al plasma, apparecchiature di deposizione di film sottili CVD, PVD e ALD
- Rilevamento del punto finale nei processi di incisione dei wafer
- Misurazione in situ dello spessore dei film sottili e della riflettanza
- Analisi in tempo reale dello stato del plasma nelle camere di processo sotto vuoto
- LAM Research 2300, 9400, ExAL e altre principali piattaforme di processo
Domande frequenti:
D1: Qual è la situazione del prodotto e la garanzia?
R: Prodotti originali nuovi. Garanzia di 1 anno inclusa.
D2: Quali sono le vostre condizioni di pagamento?
R: T/T, Paypal supportati.
D3: Qual è il tempo di consegna del prodotto? C’è disponibilità sufficiente a magazzino?
R: Modelli standard disponibili in magazzino, spedizione entro 3–5 giorni lavorativi dopo il pagamento. I modelli rari richiedono ordine al produttore—contattare il servizio clienti per i tempi.
Spedizione e tracciamento
DHL/FedEx/UPS disponibili. Numero di tracciamento + link forniti dopo la spedizione. Monitoraggio dell’intero processo da parte del nostro team.
Imballaggio e sicurezza
Imballaggio originale del marchio con protezione rinforzata (schiuma, cartoni sigillati, casse di legno per apparecchiature di precisione). Resistente a umidità e urti.