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Nuovi MKS MWJ-1013 RF Matchers

Nuovi MKS MWJ-1013 RF Matchers

Nuovi MKS MWJ-1013 RF Matchers

Alta precisione, prestazioni stabili

Adatto all'automazione industriale

Disponibile in magazzino e consegna rapida in tutto il mondo

  • Articolo n.:

    MWJ-1013
  • Ordine (MOQ):

    1
  • Pagamento:

    100% T/T
  • Origine del prodotto:

    USA
  • Colore:

    As Model
  • Porto di spedizione:

    Xiamen
  • Tempi di consegna:

    2-3 days
  • Dettagli del prodotto

Descrizione:

MKS RF Matchers (anche chiamati RF matching boxes/networks) sono dispositivi automatici di adattamento di impedenza ad alte prestazioni progettati per sistemi al plasma per semiconduttori e industriali. Allineano dinamicamente l'impedenza di uscita a 50Ω dei generatori RF con l'impedenza variabile delle camere al plasma, degli etcher, dei sistemi PECVD e degli strumenti di sputtering, riducendo al minimo la potenza riflessa e massimizzando l'efficienza di trasferimento di potenza. Dotati di sintonizzazione rapida, schermatura robusta e design compatti montabili su rack, garantiscono un'innesco del plasma stabile, prestazioni di processo costanti e affidabilità di produzione 24/7. Disponibili in condizioni nuove, ricondizionate e usate completamente testate.
 
 
 
Specifiche principali:
  1. Adattamento automatico dell'impedenza: sintonizzazione in tempo reale per abbinare l'uscita del generatore a 50Ω all'impedenza variabile del carico al plasma; minimizza la potenza riflessa (tipicamente
  2. Velocità di sintonizzazione elevata: risposta ad alta velocità (
  3. Ampia copertura di frequenza e potenza: supporta 13.56MHz (standard), 27.12MHz, 40.68MHz; potenze da 300W a 10kW
  4. Costruzione robusta: contenitore metallico ad alta resistenza con schermatura EMI/RFI; raffreddamento ad aria standard (opzione raffreddata ad acqua per modelli ad alta potenza)
  5. Componenti di precisione: condensatori variabili, induttori e motori passo-passo di alta qualità per una lunga durata del ciclo (oltre 1.000.000 di cicli)
 
 
 

Applicazioni:

  1. Produzione di semiconduttori: incisione RIE/ICP, deposizione PECVD/LPCVD, ashing al plasma, pulizia dei wafer, sistemi load lock
  2. Rivestimento sotto vuoto: sputtering, evaporazione, deposizione di film sottili PVD/CVD per ottica, display e celle solari
  3. Trattamento industriale al plasma: attivazione superficiale, pulizia, incisione e rivestimento per metalli, plastiche e ceramiche
  4. Ricerca e sviluppo: laboratori universitari, istituti di ricerca e linee di produzione pilota che richiedono una fornitura stabile di plasma RF

 

 

FAQ:

Q1:Qual è la situazione del prodotto e la garanzia?
A:Articoli nuovi originali. Garanzia di 1 anno inclusa.

Q2:Quali sono le vostre condizioni di pagamento?
A:T/T, Paypal supportati.

Q3: Qual è il tempo di consegna del prodotto? C'è sufficiente disponibilità di magazzino?
A:Modelli standard disponibili in stock, spediti entro 3–5 giorni lavorativi dopo il pagamento. I modelli rari richiedono l'ordine dal produttore—contattare il servizio clienti per i tempi.

Q4:Spedizione e tracciamento
A:DHL/FedEx/UPS disponibili. Numero di tracciamento + link forniti dopo la spedizione. Monitoraggio dell'intero processo da parte del nostro team.

Q5:Imballaggio e sicurezza

 

A:Confezione originale del marchio con protezione rinforzata (schiuma, cartoni sigillati, casse in legno per attrezzature di precisione). Resistente all'umidità e agli urti.

 

 

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