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Nuovo di zecca MKS MWJ-1213 matcher RF

Nuovo di zecca MKS MWJ-1213 matcher RF

Nuovo di zecca MKS MWJ-1213 matcher RF

Alta precisione, prestazioni stabili

Adatto all'automazione industriale

Disponibile in magazzino e consegna veloce in tutto il mondo

  • Articolo n.:

    MWJ-1213
  • Ordine (MOQ):

    1
  • Pagamento:

    100% T/T
  • Origine del prodotto:

    USA
  • Colore:

    As Model
  • Porto di spedizione:

    Xiamen
  • Tempi di consegna:

    2-3 days
  • Dettagli del prodotto

Descrizione:

I MKS RF Matchers (chiamati anche scatole/reti di adattamento RF) sono dispositivi automatici ad alte prestazioni per l’adattamento di impedenza progettati per sistemi al plasma industriali e per semiconduttori. Allineano dinamicamente l’impedenza di uscita a 50Ω dei generatori RF con l’impedenza variabile delle camere al plasma, degli etcher, dei sistemi PECVD e degli strumenti di sputtering, minimizzando la potenza riflessa e massimizzando l’efficienza di trasferimento di potenza. Dotati di sintonizzazione rapida, schermatura robusta e design compatti da montaggio su rack, garantiscono accensione stabile del plasma, prestazioni di processo costanti e affidabilità produttiva 24/7. Disponibili in condizioni nuove, ricondizionate e completamente testate usate.
 
 
 
Specifiche chiave:
  1. Adattamento automatico dell’impedenza: sintonizzazione in tempo reale per abbinare l’uscita del generatore a 50Ω all’impedenza di carico del plasma variabile; minimizza la potenza riflessa (tipicamente
  2. Velocità di sintonizzazione rapida: risposta ad alta velocità (
  3. Ampia copertura di frequenza e potenza: supporta 13.56MHz (standard), 27.12MHz, 40.68MHz; potenze nominali da 300W a 10kW
  4. Struttura robusta: involucro metallico per impieghi gravosi con schermatura EMI/RFI; raffreddamento ad aria standard (opzione raffreddamento ad acqua per modelli ad alta potenza)
  5. Componenti di precisione: condensatori variabili, induttori e motori passo-passo di alta qualità per lunga durata del ciclo (1,000,000+ cicli)
 
 
 

Applicazioni:

  1. Produzione di semiconduttori: incisione RIE/ICP, deposizione PECVD/LPCVD, ashing al plasma, pulizia wafer, sistemi load lock
  2. Rivestimento sotto vuoto: sputtering, evaporazione, deposizione di film sottili PVD/CVD per ottica, display e celle solari
  3. Trattamento al plasma industriale: attivazione superficiale, pulizia, incisione e rivestimento per metalli, plastiche e ceramiche
  4. Ricerca e sviluppo: laboratori universitari, istituti di ricerca e linee pilota di produzione che richiedono erogazione RF al plasma stabile

 

 

FAQ:

Q1:Qual è la condizione del prodotto e la garanzia?
A:Articoli originali nuovi. Garanzia di 1 anno inclusa.

Q2:Quali sono le condizioni di pagamento?
A:T/T, Paypal supportato.

Q3: Qual è il tempo di consegna del prodotto? C’è disponibilità sufficiente?
A:Modelli standard disponibili a magazzino, spedizione in 3–5 giorni lavorativi dopo il pagamento. I modelli rari richiedono ordine dal produttore—contattare il servizio clienti per le tempistiche.

Q4:Spedizione e tracciamento
A:DHL/FedEx/UPS disponibili. Numero di tracciamento + link forniti dopo la spedizione. Monitoraggio completo da parte del nostro team.

Q5:Imballaggio e sicurezza

 

A:Imballaggio originale del marchio con protezione rinforzata (schiuma, cartoni sigillati, casse di legno per apparecchiature di precisione). Resistente a umidità e urti.

 

 

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