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Nuovo controller di flusso di massa Lam Research 685-801852-015

Nuovo controller di flusso di massa Lam Research 685-801852-015

Nuovo controller di flusso di massa Lam Research 685-801852-015

Alta precisione, prestazioni stabili

Adatto all'automazione industriale

Disponibile e consegna rapida in tutto il mondo

  • Articolo n.:

    685-801852-015

  • Ordine (MOQ):

    1

  • Pagamento:

    100% T/T

  • Origine del prodotto:

    USA

  • Colore:

    As Model

  • Porto di spedizione:

    Xiamen

  • Tempi di consegna：

    2-3 days
Richiedi informazioni adesso
  • Dettagli del prodotto

Descrizione:

I spettrometri a fibra ottica LAM Research sono dispositivi di monitoraggio ottico ad alta precisione integrati per apparecchiature di lavorazione dei wafer semiconduttori. Principalmente abbinati a moduli ottici professionali, adottano un design di trasmissione a fibra ottica per catturare lo spettro di emissione del plasma, riflessione e trasmissione all'interno delle camere di processo. Ampiamente utilizzati per il rilevamento del punto finale dell'etch, la metrologia dei film sottili e il monitoraggio in tempo reale delle condizioni del plasma, queste unità garantiscono prestazioni di processo stabili, migliorano la resa produttiva e riducono i prodotti difettosi nei processi di incisione, CVD, PVD e altre procedure di produzione sotto vuoto. Come componenti OEM originali compatibili, presentano eccellente compatibilità e affidabilità a lungo termine per gli strumenti di processo LAM a tutta serie.
 
 
 
Specifiche principali:
  1. Dotati di rivelatori CCD/PMT ad alta sensibilità, che offrono un'eccezionale risoluzione spettrale e basso rumore. Coprono la gamma di lunghezze d'onda UV-visibile per soddisfare le diverse esigenze di monitoraggio dei processi semiconduttori.
  2. Interfacce in fibra SMA standard supportano la trasmissione del segnale a lunga distanza. Sonde compatibili con il vuoto funzionano stabilmente in ambienti ad alto vuoto, alta temperatura e plasma.
  3. L'analisi spettrale in tempo reale consente un giudizio preciso del punto finale dell'etch, la misurazione dello spessore dei film sottili e delle proprietà ottiche, evitando efficacemente sovra-etch e sotto-etch.
  4. Porte di comunicazione Ethernet e RS-232 integrate, completamente compatibili con i protocolli delle apparecchiature LAM per una perfetta interazione dei dati e collegamento di sistema.
  5. Struttura compatta e robusta con capacità anti-vibrazione e anti-interferenza. Supporta operatività continua 24/7 e facile sostituzione in loco.
 

 

Applicazioni tipiche:

  1. Sistemi di incisione al plasma, apparecchiature di deposizione di film sottili CVD, PVD e ALD
  2. Rilevamento del punto finale per processi di incisione dei wafer
  3. Misurazione in situ dello spessore dei film sottili e della riflettanza
  4. Analisi in tempo reale dello stato del plasma per camere di processo sotto vuoto
  5. LAM Research 2300, 9400, ExAL e altre piattaforme di processo principali

 

 

FAQ:

D1:Qual è la situazione del prodotto e la garanzia?
R:Articoli originali nuovi. Garanzia inclusa di 1 anno.

D2:Quali sono le condizioni di pagamento?
R:T/T, Paypal supportati.

D3: Qual è il tempo di consegna del prodotto? C'è sufficiente inventario?
R:Modelli standard disponibili in magazzino, spediti in 3–5 giorni lavorativi dopo il pagamento. I modelli rari richiedono ordinazione dal produttore—contattare il servizio clienti per le tempistiche.

D4:Spedizione e tracciamento
R:DHL/FedEx/UPS disponibili. Numero di tracciamento + link forniti dopo la spedizione. Monitoraggio dell'intero processo da parte del nostro team.

D5:Imballaggio e sicurezza

 

R:Imballaggio originale del marchio con protezione rinforzata (schiuma, cartoni sigillati, casse di legno per apparecchiature di precisione). Resistente a umidità e urti.

 

 

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