Descrizione:
Gli spettrometri a fibra ottica LAM Research sono dispositivi di monitoraggio ottico ad alta precisione integrati nelle apparecchiature per la lavorazione dei wafer semiconduttori. Principalmente abbinati a moduli ottici professionali, adottano un design di trasmissione in fibra ottica per catturare le emissioni di plasma, nonché gli spettri di riflessione e trasmissione all’interno delle camere di processo. Ampiamente utilizzati per il rilevamento del punto finale dell’etching, la metrologia dei film sottili e il monitoraggio in tempo reale delle condizioni del plasma, questi dispositivi garantiscono prestazioni di processo stabili, migliorano la resa produttiva e riducono i prodotti difettosi nei processi di incisione, CVD, PVD e altre procedure di produzione in vuoto. Come componenti OEM compatibili originali, offrono un’eccellente compatibilità e affidabilità a lungo termine per i sistemi di processo LAM della serie completa.
Specifiche principali:
- Dotati di rivelatori CCD/PMT ad alta sensibilità, offrono un’eccezionale risoluzione spettrale e basso rumore. Coprono la gamma di lunghezze d’onda UV-visibile per soddisfare le diverse esigenze di monitoraggio dei processi semiconduttori.
- Le interfacce in fibra SMA standard supportano la trasmissione del segnale a lunga distanza. Le sonde compatibili con il vuoto funzionano stabilmente in ambienti ad alto vuoto, alta temperatura e plasma.
- L’analisi spettrale in tempo reale consente un giudizio preciso del punto finale dell’etching, la misurazione dello spessore dei film sottili e delle proprietà ottiche, evitando efficacemente sovra-etching e sotto-etching.
- Le porte di comunicazione Ethernet e RS-232 integrate sono completamente compatibili con i protocolli delle apparecchiature LAM per uno scambio dati e un’integrazione di sistema senza soluzione di continuità.
- Struttura compatta e robusta con capacità anti-vibrazione e anti-interferenza. Supporta il funzionamento continuo 24/7 e una facile sostituzione in loco.
Applicazioni tipiche:
- Sistemi di incisione al plasma, apparecchiature di deposizione di film sottili CVD, PVD e ALD
- Rilevamento del punto finale nei processi di incisione dei wafer
- Misurazione in situ dello spessore dei film sottili e della riflettanza
- Analisi in tempo reale dello stato del plasma nelle camere di processo in vuoto
- LAM Research 2300, 9400, ExAL e altre piattaforme di processo principali
FAQ:
Q1:Qual è la situazione del prodotto e la garanzia?
A:Articoli originali nuovi. Garanzia di 1 anno inclusa.
Q2:Quali sono le condizioni di pagamento?
A:T/T, PayPal supportati.
Q3: Qual è il tempo di consegna del prodotto? C’è disponibilità sufficiente in magazzino?
A:Modelli standard disponibili in magazzino, spedizione entro 3–5 giorni lavorativi dopo il pagamento. I modelli rari richiedono ordine dal produttore—contattare il servizio clienti per le tempistiche.
Q4:Spedizione e tracciamento
A:DHL/FedEx/UPS disponibili. Numero di tracciamento + link forniti dopo la spedizione. Monitoraggio completo del processo da parte del nostro team.
Q5:Imballaggio e sicurezza
A:Imballaggio originale del marchio con protezione rinforzata (schiuma, cartoni sigillati, casse di legno per apparecchiature di precisione). Resistente all’umidità e agli urti.